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维意真空晶圆芯片键合机支持定制

维意真空晶圆芯片键合机支持定制

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晶圆Bonding机技术方案

一、设备组成概述

设备由加压力系统,压力控制系统,加热系统,真空系统,气路系统,电气控制系统,

二、设备技术要求

1、设备极限真空度≤1Pa

2、键合平台尺寸≥200mm×200mm(长×宽);平台平行度:0.05mm

3、可键合晶圆厚度,0~140mm可键合芯片尺寸≥150mm×150mm(长×宽)

4、压力范围:0~3.5KN;键合压力在量程内也任意可编程设置与控制;压力显示精度:±0.1KN

5、真空系统1

真空腔、真空机械油泵,手动角阀,真空计,微正压泄压阀,进气口、进气阀、及进气浮子流量计。

6、控温范围室温~300℃;上下板最大温差:3℃;

温度可以灵活设置和编程,温控精度:±1%100℃以下±1℃);

均匀升温速率:4/min100℃以下);3/min100~200℃);2/min200℃以上);快速升温速率:10/min;支持温度编程段数:10 段控温;

上下压盘部分采用高温合金制造,上下压盘同时加热控温,能在600度高温下加压不变形,保证加压基板的平整度。

7、电气控制系统1套。

8、电源功率要求:220V,3.5KW

三、设备主要配置方案

1、设备采用机械泵(型号:TRP-24),以实现极限真空度:1Pa

2、键合平台方案:上压头采用球头轴,保证两压头之间的平行度,

3、加压力系统1套:

采用伺服电动缸(型号:外径75);粘合压力:0750Kg可控;压力可以斜率上升(线 性)。上升速率:0.55Kg/s。从而达到压力范围:0~3.5KN伺服电机加压时,配合压力传感器进行测量,PLC,实时在线监测,保证压力精度的准确性。键合压力在量程内也任意可编程设置与控制,压力显示精度:±0.1KN。      

4、控制系统1套:

    由plc和控制模块对伺服电动缸的加压系统和样品台加热系统进行控制,可随意设置和更改参数。

5、真空系统1

真空机械油泵,手动角阀,真空计,微正压泄压阀,进气口、进气阀、及进气浮子流量计。

6、加热系统1套:

采用铠装加热丝加热形式,表面功率大,升温速度快,加热均匀;压盘部分采用高温合金制造。K型热电偶进行温度反馈,固态继电器进行PID温度调节。铠装电阻丝采用铝合金压板固定,不需要隔热装置。常用温度:室温 ~ 300 ℃ ± 1℃ 。要求斜率上升,可设定上升曲线,10段控温 。常用温度上升速率:均匀升温速率:4/min100℃以下);3/min(100~200℃);2/min200℃以上);快速升温速率:10/min,要求加热部件要均匀,上下板最大温差:3℃;

7、电气控制系统1套。

设备名称

产地

数量

1.

真空获得与测量部分

1.2

真空机械泵(TRP-24)

合资

1

1.3

GYC-JQ40KF高真空电磁压差式带充气阀

上海西马特

1

1.4

CF-16高真空手动充放气阀

浅蓝纳米

1

15

真空计(大气压~0.1Pa

成都睿宝 

1

1.6

不锈钢液压波纹管路组件

中外合资弗莱希波

1  

1.7

数显压力表

合资

1

1.8

泄压阀

浅蓝纳米

1

1.9

真空抽气阀

浅蓝纳米

1

2.

真空腔体部分

2.1

真空室壳体(真空专用不锈钢)

浅蓝纳米

1

2.2

压力控制系统(样品上压头)

浅蓝纳米

1

2.3

加热系统

浅蓝纳米

1

2.4

样品下压头

浅蓝纳米

1

2.5

伺服电动缸

上海

1

2.5

100观察窗

浅蓝纳米

1

2.6

CF-35四芯陶封组件

浅蓝纳米

1

2.7

压力传感器

上海

1

3.

电器部分

1

3.1

总控电源

浅蓝纳米

1

3.2

样品加热控制电源

浅蓝纳米

2

3.3

Plc控制系统

浅蓝纳米

1

3.4

总控触屏

台湾

1

4

辅助件及配件

4.1

设备主机架

浅蓝纳米

1

4.2

氟橡胶圈、无氧铜垫及各种标准件、备件

浅蓝纳米

全套

工作说明:1.将下基片底放在下压头上,将上基片放在上基片支撑机构上。(此时两基片中间有间隙,为了抽下基片气泡)

                2.抽真空除气泡完毕后,上基片支撑机构的几个支撑板会于上基片拖开,上基片下落到下基片上。

                3.利用基片对准整合机构将上下基片整合对准。

                4.设定压合工艺,利用上下压头对两基片进行压合。

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